这可是上亿美元的大单呀！！
木村真琴卖出去的那只脚硬生生的收了回来，他几乎没有任何犹豫，就重新做到了黄鹤对面，然后主动低头道“黄桑，请原谅我刚才的失礼，你应该能够理解我的态度的，非常抱歉！”
堂堂的尼康社长木村真琴，居然就这么非常干脆的向黄鹤道歉了，这简直是一件看上去非常不可思议的事情，毕竟韩国人折腾了几十年的时间，都没有换来日本人的一句道歉，结果木村真琴现在就非常干脆的道歉了。
这里就必须要提到日本人的两面性了，在日本，道歉是最简单也是最困难的事情，在不涉及利益，或者要损失利益的情况下，你让日本人道歉是绝对不可能的，你就算愤怒的把他的大使馆给砸了，那也是不可能的。
但是相反，如果一个道歉能够带来巨大的利益的话，那他就会立刻找来蒲团，跪在上面，恭恭敬敬的向你道歉。
木村真琴大概就是这样的情况，且不说阿斯麦的事情，如果十台光刻机是真的，那木村真琴无论如何道歉，也要把黄鹤这个客户给笼络到手中的。
“日本人能够成功，果然不是没有原因的！”黄鹤感叹一声，然后接着说道“既然木村社长的态度如此诚恳，那我也不跟您弯弯绕绕了，我直接说吧，阿斯麦已经得到了跨越50纳米的技术极限的钥匙了，最迟两年的时间，阿斯麦的第1台48纳米级别的光刻机就能够上市。”
“这不可能！”木村真琴又一次高呼出了不可能三个字，但这一回他脑门上全部都是汗水，身上穿的和服，甚至都在这一瞬间被汗水给浸透了。
50纳米的技术极限，这是全球捆在所有光刻机企业脖子上的绳索，自从10年前到达这个极限之后，无论是尼康还是佳能，几乎每年都要投入1－2亿美元的巨额资金来研发突破这个极限的途径。
为了突破这个极限，全球各个光刻机行业的专家们提出了几种途径，其中包括157n f2激光，电子束投射，离子投射、euv和x光，并形成了以下几大阵营：
其中f2激光技术，这是目前在理论和技术上最为成熟的阵营，在浸润式光刻机出现之前，几乎所有的光刻机企业研究的都是这个技术，目前是美国的svg和日本的尼康，在这两个技术上走的最远，尤其是尼康，他们估计再有个5年左右的时间，就能够拿出最终的产品出来了。
但是这个技术有一个巨大的缺陷，那就是生产成本巨大，改造成本也更加的巨大，而且这个技术的天花板，也就是从50纳米提高到了40纳米左右，提升的幅度只有20％，是典型的投入和产出相差极大的案例。
如果用这种办法制造出来的芯片，最早是现在同等级芯片的价格的三倍以上，如果投放到市场上，他未来所有顶级芯片的旗舰手机的起步价格，就最少要提交2000元人民币左右了。
但这依然是目前最有可能成功的技术。